靶材是指用于制备薄膜材料的材料，主要用于物理、化学、电子、光学等领域的研究和应用。靶材的制备、性能和使用对薄膜材料的制备和性能具有重要影响。
靶材的材料种类非常广泛，例如金属、合金、氧化物、氮化物、碳化物、硅等。其中，金属靶材是最常用的一种，因为其制备较为简单，性能稳定，而且价格相对较低。不同材料的靶材具有不同的性质和用途，例如，氧化物靶材主要用于制备透明导电薄膜、光学薄膜等；氮化物靶材主要用于制备高硬度、高耐热、高导热的涂层等。
靶材的制备通常采用热压、热等静压、真空热压等方法。其中，热压法是最常用的一种方法。将原料粉末放入模具中，在高温高压下进行压制，使粉末颗粒结合成块状，形成靶材。热等静压法是另一种常用的方法，它将粉末放入模具中，然后在高温高压下进行加热，使粉末颗粒结合成块状。真空热压法则是在真空环境下进行热压制备。
靶材的性能对薄膜材料的制备和性能具有非常重要的影响。首先，靶材的纯度和微观结构影响薄膜材料的物理和化学性质，如导电性、光学性质等。其次，靶材的密度和微观形貌决定了薄膜材料的结构和成分。最后，靶材的尺寸和形状对薄膜材料的制备和性能也具有影响。
靶材在科学研究和工业生产中具有广泛的应用。例如，金属靶材被广泛用于制备电子材料、光学材料、防腐涂料、金属涂层等。氧化物靶材被广泛用于制备透明导电薄膜、光学薄膜等。氮化物靶材则被广泛用于制备高硬度、高耐热、高导热的涂层等。随着科技的不断发展，靶材的应用范围将会不断扩大。
总之，靶材是制备薄膜材料的重要材料，其制备、性能和使用对薄膜材料的制备和性能具有重要影响。不同材料的靶材具有不同的性质和用途，在科学研究和工业生产中具有广泛的应用。